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引言 1

第一章 离子沉积技术的物理基础 7

一、真空物理基础 7

(一)真空的基本概念 7

(二)气体分子运动论 9

(三)分子运动的平均自由程 12

(四)气体分子和表面的作用 16

二、低温等离子体物理基础 24

(一)低温等离子体物理概述 24

(二)低气压气体放电 27

(三)气体放电发展过程 46

(四)辉光放电特性 55

(五)弧光放电特性 63

(六)带电粒子与表面的作用 79

(七)带电粒子在电磁场中的运动 83

第二章 各种表面沉积技术 92

一、氮化钛等超硬涂层 92

(一)沉积超硬涂层技术的发展概况 92

(二)超硬涂层的类型 93

(三)超硬涂层的作用 95

二、化学气相沉积(CVD) 98

(一)绪言 98

(二)CVD技术在机械工业中的应用 98

(三)CVD的一般原理和技术 101

(一)真空蒸镀 114

三、物理气相沉积(PVD) 114

(二)离子镀 128

(三)磁控溅射 168

(四)物理气相沉积工艺过程 186

四、等离子体化学气相沉积(PCVD) 189

(一)等离子体发生过程 190

(二)等离子体中的化学反应 195

(三)等离子体化学气相沉积装置 199

(四)等离子体化学气相沉积工艺过程 201

第三章 镀层的质量检测 205

一、镀层的性能测试 205

(一)镀层厚度的测量 205

(二)镀层结合强度的测量 208

(三)镀层硬度的测量 212

(四)镀层应力的测量 216

(五)镀层孔隙率的测量 219

(六)氮化钛色泽的测定 223

二、镀层显微结构的分析 231

(一)微观组织形貌观察 234

(二)微区化学成分分析 236

(三)微区晶体结构分析 241

(四)镀层的电子结构分析 243

三、镀层的显微组织和沉积工艺参数的关系 244

四、镀层的性能—结构—工艺关系 260

附录 269

国内外刀具超硬涂层镀膜设备主要参数和性能指标 269

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